Wòl nan souf hexafluoride nan Silisyòm nitrid grave

Sulfur hexafluoride se yon gaz ki gen ekselan pwopriyete posibilite epi li se souvan yo itilize nan segondè-vòltaj ark extend ak transformateur, wo-vòltaj liy transmisyon, transformateur, elatriye Sepandan, nan adisyon a fonksyon sa yo, souf hexafluoride kapab tou gen pou itilize kòm yon etchant elektwonik. Elektwonik klas wo-pite souf hexafluoride se yon ideyal elektwonik etchant, ki se lajman ki itilize nan jaden an nan teknoloji mikwo-elektwonik. Jodi a, NIU Ruide Editè gaz Espesyal Yueyue ap prezante aplikasyon an nan hexafluoride souf nan Silisyòm nitride grave ak enfliyans nan paramèt diferan.

We discuss the SF6 plasma etching SiNx process, including changing the plasma power, the gas ratio of SF6/He and adding the cationic gas O2, discussing its influence on the etching rate of the SiNx element protection layer of TFT, and using plasma radiation The spectrometer analyzes the concentration changes of each species in SF6/He, SF6/He/O2 plasma and the SF6 dissociation rate, ak eksplore relasyon ki genyen ant chanjman nan SINX pousantaj grave ak konsantrasyon nan espès plasma.

Etid yo te jwenn ke lè se pouvwa a plasma ogmante, pousantaj la grave ogmante; Si se pousantaj la koule nan SF6 nan plasma a ogmante, konsantrasyon an atòm F ogmante epi li se pozitivman Koehle ak pousantaj la grave. Anplis de sa, apre yo fin ajoute gaz la katolik O2 anba pousantaj la koule fiks total, li pral gen efè a nan ogmante pousantaj la grave, men anba diferan rapò O2/SF6 koule, pral gen mekanism reyaksyon diferan, ki ka divize an twa pati: (1) O2/SF6 Flow rapò a se trè piti, O2 ka sa a lè sa a. (2) Lè rapò koule O2/SF6 la pi gran pase 0.2 pou entèval apwoche 1, nan moman sa a, akòz gwo kantite izolman nan SF6 pou fòme atòm F, pousantaj grave a se pi wo a; Men, an menm tan an, atòm yo O nan plasma a yo tou ogmante epi li se fasil yo fòme Siox oswa Sinxo (YX) ak sifas la fim SINX, ak plis atòm yo O ogmante, pi difisil la atòm yo F yo pral pou reyaksyon an grave. Se poutèt sa, pousantaj la grave kòmanse ralanti lè rapò a O2/SF6 se fèmen nan 1. (3) lè rapò a O2/SF6 ki pi gran pase 1, pousantaj la grave diminye. Akòz gwo ogmantasyon nan O2, atòm F disociated kolizyon ak O2 ak fòm nan, ki diminye konsantrasyon an nan atòm F, ki kapab lakòz yon diminisyon nan pousantaj la grave. Li ka wè nan sa a ki lè O2 se te ajoute, rapò a koule nan O2/SF6 se ant 0.2 ak 0.8, ak pi bon pousantaj la grave ka jwenn.