Gaz espesyaldiferan de jeneralgaz endistriyèl yopaske yo gen itilizasyon espesyalize epi yo aplike nan domèn espesifik. Yo gen egzijans espesifik pou pite, kontni enpurte, konpozisyon, ak pwopriyete fizik ak chimik. Konpare ak gaz endistriyèl yo, gaz espesyal yo pi divès nan varyete men yo gen pi piti volim pwodiksyon ak lavant.

Lagaz melanjeepigaz kalibrasyon estandaGaz melanje nou souvan itilize yo se konpozan enpòtan nan gaz espesyal yo. Gaz melanje yo anjeneral divize an gaz melanje jeneral ak gaz melanje elektwonik.

Gaz melanje jeneral yo enkli:gaz melanje lazè, deteksyon enstriman gaz melanje, soude gaz melanje, prezèvasyon gaz melanje, sous limyè elektrik gaz melanje, rechèch medikal ak byolojik gaz melanje, dezenfeksyon ak esterilizasyon gaz melanje, alam enstriman gaz melanje, gaz melanje presyon ki wo, ak lè zewo-klas.

Melanj gaz elektwonik yo gen ladan melanj gaz epitaksyèl, melanj gaz depo vapè chimik, melanj gaz dopan, melanj gaz grave, ak lòt melanj gaz elektwonik. Melanj gaz sa yo jwe yon wòl endispansab nan endistri semi-kondiktè ak mikwoelektwonik epi yo lajman itilize nan fabrikasyon sikwi entegre gwo echèl (LSI) ak sikwi entegre gwo echèl (VLSI), osi byen ke nan pwodiksyon aparèy semi-kondiktè.

5 Kalite gaz melanje elektwonik yo se sa yo ki pi souvan itilize

Dopan gaz melanje

Nan fabrikasyon aparèy semi-kondiktè ak sikui entegre, yo entwodui sèten enpurte nan materyèl semi-kondiktè pou bay konduktivite ak rezistivite yo vle a, sa ki pèmèt fabrikasyon rezistans, jonksyon PN, kouch antere, ak lòt materyèl. Gaz yo itilize nan pwosesis dopan an yo rele gaz dopan. Gaz sa yo prensipalman gen ladan yo arsin, fosfin, trifluorid fosfò, pentafluorid fosfò, trifluorid asenik, pentafluorid asenik,trifluorid bor, ak diboran. Sous dopan an tipikman melanje ak yon gaz vektè (tankou agon ak nitwojèn) nan yon kabinè sous. Lè sa a, yo enjekte gaz melanje a kontinyèlman nan yon founo difizyon epi li sikile toutotou waf la, depoze dopan an sou sifas waf la. Dopan an reyaji ak silikon pou fòme yon metal dopan ki migre nan silikon an.

Melanj gaz kwasans epitaksi

Kwasans epitaksiyal se pwosesis pou depoze epi fè yon materyèl monokristal grandi sou yon sifas substrat. Nan endistri semi-kondiktè a, gaz yo itilize pou fè youn oubyen plizyè kouch materyèl grandi lè l sèvi avèk depo vapè chimik (CVD) sou yon substrat ki byen chwazi yo rele gaz epitaksiyal. Gaz epitaksiyal Silisyòm komen yo enkli diidwojèn diklorosilan, tetraklorid Silisyòm, ak silan. Yo sitou itilize pou depo Silisyòm epitaksiyal, depo Silisyòm polikristalin, depo fim oksid Silisyòm, depo fim nitrid Silisyòm, ak depo fim Silisyòm amorf pou selil solè ak lòt aparèy fotosansib.

Gaz enplantasyon iyon

Nan fabrikasyon aparèy semi-kondiktè ak sikwi entegre, gaz yo itilize nan pwosesis enplantasyon iyon yo rele ansanm gaz enplantasyon iyon. Enpurte iyonize yo (tankou iyon bor, fosfò, ak asenik) akselere nan yon nivo enèji ki wo anvan yo enplante yo nan substra a. Teknoloji enplantasyon iyon an pi lajman itilize pou kontwole vòltaj papòt la. Kantite enpurte enplante yo ka detèmine lè yo mezire kouran gwo bout bwa iyon an. Gaz enplantasyon iyon yo tipikman gen ladan yo gaz fosfò, asenik, ak bor.

Gravure gaz melanje

Gravure se pwosesis pou grave sifas ki trete a (tankou fim metal, fim oksid Silisyòm, elatriye) sou substra a ki pa maske pa fotorezist la, tout pandan y ap prezève zòn ki maske pa fotorezist la, pou jwenn modèl imaj ki nesesè a sou sifas substra a.

Melanj Gaz Depozisyon Vapè Chimik

Depozisyon chimik an vapè (CVD) itilize konpoze volatil pou depoze yon sèl sibstans oswa konpoze atravè yon reyaksyon chimik an faz vapè. Sa a se yon metòd fòmasyon fim ki itilize reyaksyon chimik an faz vapè. Gaz CVD yo itilize yo varye selon kalite fim k ap fòme a.